붕소 확산, 주 확산의 목적은 산소를 도입하는 것입니다.

붕소 소스의 과도한 투입을 제어합니다. 붕소 확산 방법에서, 주 확산부에 산소를 도입하는 목적은 붕소 소스의 과도한 도입을 제어하고, 각 실리콘 웨이퍼의 각 위치에 충분한 양의 붕소 원소가 증착되도록 하기 위함임을 알 수 있다. 확산로는 일종의 미세한 입자이며, 다양한 개별 장치 및 집적 회로 제조 시 고체 확산 공정을 확산이라고 합니다. 실리콘 웨이퍼의 원래 전기적 특성을 변화시키기 위해 실리콘 웨이퍼 결정에 붕소 불순물의 양을 첨가합니다.