중국과학원, 사진 평판 기계에 관한 소문을 반박하다

최근 우리나라 중국과학원이 5나노 레이저 노광기술에서 돌파구를 마련하는데 성공했지만, 이 소식이 나온 뒤 일부 언론에서는 이 문제를 너무 황당하게 해석할 필요가 있다. 몇 가지 상황을 명확히 하세요.

기술적 혁신은 좋은 일이지만, 종이에 기술을 실무에 적용하는 것은 여전히 ​​긴 과정이 필요하며 더 많은 업계 체인의 지원 없이는 완료될 수 없습니다. 냉장고를 만드는 것처럼 냉장고를 만드는 기술도 있지만, 냉장고의 전체적인 틀은 늘 사람이 가공해야 하고, 그 밖에도 작은 부품들도 늘 사람이 제공해야 합니다. 이 모든 것에는 산업 체인의 지원이 필요하며 이는 단지 기술 보유의 문제가 아니며 산업 체인의 다른 생산 기술은 이를 달성할 수 없습니다. 그것도 할 수 없습니다.

이러한 기술은 이론적으로는 획기적인 발전을 이루었지만 칩 생산에는 파장 안정성, 정확도 등 요인의 영향을 받기 때문에 실제 생산 경험이 축적되어야 합니다. 따라서 공정 경험의 축적도 매우 중요합니다. 그렇지 않으면 생산된 칩의 수율이 불안정해집니다.

또 다른 지적은 언론이 개념을 오해했다는 점이다. 즉, 중국과학원의 5nm 슬릿 전극 돌파가 칩 제조 기술의 전부는 아니고 레이저 리소그래피라는 것이다. 기계 산업용으로는 적합하지 않으며 실험용으로만 적합합니다. 예를 들어 칩을 그림으로 취급한다면 EUV 노광기는 사진을 찍어서 모양을 한 번에 만들 수 있지만, 레이저 노광기는 훨씬 더 복잡하고 선에 따라 하나씩 조각해야 한다. 따라서 효율성 측면에서 산업생산에 사용하기에는 적합하지 않습니다.

따라서 중국과학원의 이번 기술 혁신은 반도체 산업에 큰 영향을 미치지 않을 것이다. 그러나 모기는 아무리 작더라도 여전히 고기일 수 있다. 미래의 신기술 개발을 촉진하기 위한 연구 개발 경험으로 사용될 수 있습니다. 따라서 현재 이를 프로덕션에 적용하는 것은 불가능합니다.