타겟의 기능과 용도는 무엇인가요?

1. 마이크로 전자공학 분야

모든 응용 산업 중에서 반도체 산업은 타겟 스퍼터링 필름에 대한 품질 요구 사항이 가장 엄격합니다. 현재는 12인치(300mm) 실리콘 웨이퍼가 생산되고 있다. 그러나 인터커넥트 라인의 폭은 줄어들고 있다. 타겟에 대한 실리콘 웨이퍼 제조업체의 요구 사항은 대형 크기, 고순도, 낮은 편석 및 미세 입자이며, 이는 제조된 타겟이 더 나은 미세 구조를 갖도록 요구합니다.

2. 모니터의 경우

평판 디스플레이(FPD)는 최근 몇 년간 음극선관(CRT)이 주도했던 컴퓨터 모니터와 TV 시장에 큰 영향을 미쳤으며, 앞으로도 ITO는 기술과 시장 수요를 목표로 합니다. 현재 iTO 타겟에는 두 가지 유형이 있습니다. 하나는 나노상태의 산화인듐과 산화주석 분말을 사용하여 혼합 소결하는 것이고, 다른 하나는 인듐주석 합금 타겟재를 사용하는 것이다.

3. 스토리지 활용

스토리지 기술 측면에서 고밀도, 대용량 하드드라이브 개발에는 대량의 거대 자기저항막 소재가 필요하다. 층 복합 필름은 현재 널리 사용되는 거대 자기 저항 박막 구조입니다. 광자기 디스크에 필요한 TbFeCo 합금 타겟은 아직 추가 개발이 진행 중입니다. 이를 이용해 만든 광자기 디스크는 저장 용량이 크고 수명이 길며 접촉 없이 반복적으로 지우고 쓸 수 있는 특성을 가지고 있습니다.

추가 정보:

타겟 재료 개발:

다양한 유형의 스퍼터링된 박막 재료는 반도체 집적 회로(VLSI), 광디스크, 평판 등에 사용됩니다. - 패널 디스플레이 및 공작물의 표면 코팅 및 기타 측면에 널리 사용되었습니다. 1990년대 이후 스퍼터링 타겟과 스퍼터링 기술의 동시 개발은 다양한 새로운 전자 부품 개발 요구를 크게 충족시켰습니다.

예를 들어 반도체 집적회로 제조 공정에서는 알루미늄 필름 배선을 대체하기 위해 저항률이 낮은 구리 도체 필름이 사용됩니다. 평판 디스플레이 산업에서는 다양한 디스플레이 기술(예: LCD, PDP, OLED 및 FED 등), 일부는 컴퓨터 및 컴퓨터 모니터 제조에 사용되었습니다.

정보 저장 산업에서는 자기 메모리의 저장 용량이 지속적으로 증가하고 있으며, 새로운 광자기 기록 재료가 계속해서 도입되고 있으며 이로 인해 필요한 스퍼터링 타겟의 품질에 대한 요구 사항이 점점 더 높아지고 있습니다. 수요 또한 해마다 증가하고 있습니다.

바이두 백과사전—타겟